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跨尺度制造技术重庆市重点实验室举办系列学术报告
2015-04-13| 编辑: | 【

  近日,跨尺度制造技术重庆市重点实验室2015年度学术委员会成功召开,随后,跨尺度制造技术重庆市重点实验室(以下简称重点实验室)举办了系列学术报告,中国科学院微电子研究所陈宝钦研究员应重点实验室邀请,作了题为电子束光刻与纳米光刻技术(E-beam Lithography and Nano-lithography Technology的报告。陈宝钦研究员2个多小时的报告为大家带来了光学曝光技术、光学曝光分辨率增强技术及先进掩膜技术、下一代光刻技术、传统与非传统的纳米制造技术等方面的讲解和亲身的科研经历,吸引了科研人员、研究生等四十余人前往聆听,并就有关学术问题进行了深入的探讨。 

  陈宝钦,研究员,博士生导师,1966年毕业于北京大学物理系,1968-1985年任职于中国科学院半导体研究所,1986年至今于中国科学院微电子研究所。兼职中国科学院大学教授,北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任,全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任,全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长,中国科学院老科技工作者协会理事。多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。 

 
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